當(dāng)前位置：首頁 > 技術(shù)文章
膜厚測量儀是科研、工業(yè)生產(chǎn)及質(zhì)量控制等領(lǐng)域中用于精確測量薄膜、涂層或其他薄層材料厚度的關(guān)鍵工具。為確保測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和操作人員的安全，使用儀器時(shí)必須嚴(yán)格遵守操作規(guī)范和安全注意事項(xiàng)。在操作規(guī)范方面，首先需根據(jù)被測材料的類型和應(yīng)用場景選擇合適...
橢偏儀/橢圓偏振儀是一種用于探測薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量儀器。現(xiàn)在已被廣泛應(yīng)用于材料、物理、化學(xué)、生物、醫(yī)藥等領(lǐng)域的研究、開發(fā)和制造過程中。基本原理：橢偏儀的原理主要依賴于光的偏振現(xiàn)象。當(dāng)光線通過某些物質(zhì)時(shí)，其偏振狀態(tài)會發(fā)生變化。橢偏儀利用這一特性，通過精確控制入射光的偏振態(tài)，并測量經(jīng)過樣品后光的偏振態(tài)變化，進(jìn)而分析樣品的性質(zhì)。橢偏法測量具有如下特點(diǎn)：1.能測量很薄的膜（1nm），且精度很高，比干涉法高1-2個數(shù)量級。2.是一種無損測量，不必特別制備樣品，也...
Filmetrics3D光學(xué)輪廓儀是用于對各種精密器件表面進(jìn)行納米級測量的儀器，它是以白光干涉技術(shù)為原理，光源發(fā)出的光經(jīng)過擴(kuò)束準(zhǔn)直后經(jīng)分光棱鏡后分成兩束，一束經(jīng)被測表面反射回來，另外一束光經(jīng)參考鏡反射，兩束反射光最終匯聚并發(fā)生干涉，顯微鏡將被測表面的形貌特征轉(zhuǎn)化為干涉條紋信號，通過測量干涉條紋的變化來測量表面三維形貌。Filmetrics3D光學(xué)輪廓儀具有3倍於于其成本儀器的次納米級垂直分辨率，Profilm3D同樣使用了現(xiàn)今高分辨率之光學(xué)輪廓儀的測量技術(shù)包含垂直掃描干涉（V...
硅片電阻率測試模組是一款測量圓柱晶體硅電阻率測試儀器，可測量硅芯，檢磷棒，檢硼棒，籽晶等，由于儀器大大消除了珀?duì)柼?yīng)、塞貝克效應(yīng)、少子注入效應(yīng)等負(fù)效應(yīng)的影響，因此測試精度大大提高，量程實(shí)現(xiàn)了電阻率從10-4歐姆.厘米到10+4歐姆.厘米（可擴(kuò)展）的測試范圍。因此儀器具有測量精度高、穩(wěn)定性好、測量范圍廣、結(jié)構(gòu)緊湊、使用方便等特點(diǎn)。是西門子法、硅烷法等工藝生產(chǎn)原生多晶硅料的企業(yè)、物理提純生產(chǎn)多晶硅料生產(chǎn)企業(yè)、光伏及半導(dǎo)體材料廠、器件廠、科研部門、高等院校以及需要超大量程測試電阻...
納米壓印機(jī)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，支持尺寸從碎片到最大150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。納米壓印機(jī)提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間僅為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。對于壓印工藝，本產(chǎn)品允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑1...
紅外激光測厚儀一般是由兩個激光位移傳感器上下對射的方式組成的，上下的兩個傳感器分別測量被測體上表面的位置和下表面的位置，通過計(jì)算得到被測體的厚度。本產(chǎn)品的優(yōu)點(diǎn)在于它采用的是非接觸的測量，相對接觸式測厚儀更精準(zhǔn)，不會因?yàn)槟p而損失精度。相對超聲波測厚儀精度更高。相對X射線測厚儀沒有輻射污染。測厚原理：兩個激光位移傳感器的激光對射，被測體放置在對射區(qū)域內(nèi)，根據(jù)測量被測體上表面和下表面的距離，計(jì)算出被測體的厚度。紅外激光測厚儀的基本組成是激光器、成像物鏡、光電位敏接收器、信號處理機(jī)...