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等離子去膠和微波去膠的區(qū)別及應(yīng)用分析
2024-10-10

在電子制造和材料科學(xué)領(lǐng)域,去膠技術(shù)是一個(gè)至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。隨著科技的進(jìn)步,等離子去膠和微波去膠作為兩種常見(jiàn)的去膠方法,各自具備特殊的優(yōu)勢(shì)與適用性。本文將探討這兩種技術(shù)的基本原理、優(yōu)缺點(diǎn)及其在實(shí)際應(yīng)用中的區(qū)別。一、基本原理1.等離子去膠:利用等...

  • 2023-09-20

    薄膜厚度測(cè)量是材料科學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)中的重要環(huán)節(jié)。為了滿(mǎn)足對(duì)精確度、便攜性和操作簡(jiǎn)便的需求,研究人員開(kāi)發(fā)了一種精簡(jiǎn)的薄膜厚度測(cè)量?jī)x,該儀器能夠?qū)崿F(xiàn)高精度的測(cè)量,為各行各業(yè)提供了一種快速準(zhǔn)確的測(cè)量解決方案。精簡(jiǎn)薄膜厚度測(cè)量?jī)x的原理基于光學(xué)干涉的原理。儀器主要由光源、分束器、樣品臺(tái)和檢測(cè)器組成。當(dāng)光線(xiàn)照射到待測(cè)薄膜表面時(shí),一部分光線(xiàn)被反射,一部分光線(xiàn)穿過(guò)薄膜并在底部反射。通過(guò)檢測(cè)這兩束光線(xiàn)的干涉衍射現(xiàn)象,可以計(jì)算出薄膜的厚度。這種測(cè)量?jī)x器具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、體積小巧、操作方便等優(yōu)點(diǎn)。它不需...

  • 2023-09-14

    隨著科技的發(fā)展和應(yīng)用范圍的擴(kuò)大,薄膜材料在多個(gè)行業(yè)中得到了廣泛的應(yīng)用,如光學(xué)、電子、涂層等領(lǐng)域。而對(duì)薄膜材料的厚度進(jìn)行準(zhǔn)確測(cè)量是保證產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵。為此,自動(dòng)化高速薄膜厚度測(cè)量?jī)x應(yīng)運(yùn)而生,成為提升生產(chǎn)效率的重要工具。本文將介紹該測(cè)量?jī)x的原理、特點(diǎn)以及其在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用。自動(dòng)化高速薄膜厚度測(cè)量?jī)x是一種通過(guò)非接觸式方法,對(duì)薄膜材料進(jìn)行高速、高精度測(cè)量的設(shè)備。其原理基于光學(xué)干涉或X射線(xiàn)吸收等技術(shù),通過(guò)測(cè)量光或射線(xiàn)在薄膜表面的反射或透射情況,從而計(jì)算出薄膜的厚度。該儀器結(jié)構(gòu)緊...

  • 2023-09-07

    納米壓痕儀是一種先進(jìn)的實(shí)驗(yàn)設(shè)備,可以用于測(cè)量材料的力學(xué)性能和表面硬度。它通過(guò)使用納米尖頭對(duì)樣品表面進(jìn)行微小力的施加,并測(cè)量樣品在受力下的變形情況。根據(jù)該變形情況,可以計(jì)算出材料的硬度、彈性模量和塑性變形等力學(xué)性質(zhì)。納米壓痕儀的測(cè)量應(yīng)用:1.材料硬度測(cè)量:它可以用于測(cè)量各種材料的硬度,包括金屬、陶瓷、聚合物等。通過(guò)測(cè)量材料的硬度,可以評(píng)估材料的抗壓性能和耐磨性,為材料的選擇和應(yīng)用提供依據(jù);2.薄膜性能表征:它可以用于測(cè)量薄膜的力學(xué)性能,如薄膜的硬度、彈性模量和粘附性。這對(duì)于薄膜...

  • 2023-09-01

    白光干涉儀是用于對(duì)各種精密器件表面進(jìn)行納米級(jí)測(cè)量的儀器,它是以白光干涉技術(shù)為原理,光源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)擴(kuò)束準(zhǔn)直后經(jīng)分光棱鏡后分成兩束,一束經(jīng)被測(cè)表面反射回來(lái),另外一束光經(jīng)參考鏡反射,兩束反射光最終匯聚并發(fā)生干涉,顯微鏡將被測(cè)表面的形貌特征轉(zhuǎn)化為干涉條紋信號(hào),通過(guò)測(cè)量干涉條紋的變化來(lái)測(cè)量表面三維形貌。白光干涉儀專(zhuān)用于非接觸式快速測(cè)量,精密零部件之重點(diǎn)部位的表面粗糙度、微小形貌輪廓及尺寸,其測(cè)量精度可以達(dá)到納米級(jí)!目前,在3D測(cè)量領(lǐng)域,白光干涉儀是精度最高的測(cè)量?jī)x器之一。白光干涉儀比...

  • 2023-08-30

    微波等離子清洗是一種新興的清洗技術(shù),利用微波等離子體在低溫下的高效能量傳遞和化學(xué)反應(yīng)特性,可以用于清洗各種復(fù)雜結(jié)構(gòu)、高精密度和高靈敏度的物體。本文將探討該清洗技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域、優(yōu)勢(shì)以及未來(lái)的發(fā)展前景。一、它的應(yīng)用領(lǐng)域:1.半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè):微波等離子清洗技術(shù)可以用于清洗半導(dǎo)體材料和器件,如晶圓、芯片和封裝材料。它能夠有效去除表面的污染物、氧化層和有機(jī)殘留物,提高材料的表面質(zhì)量和性能。2.光學(xué)工業(yè):它可以應(yīng)用于清洗光學(xué)元件,如鏡片、透鏡和光纖。它能夠去除光學(xué)元件表面的油脂、灰塵和污染物...

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